传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板的方法,克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。 MicroWriter ML3是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm x 70cm x 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。 600nm图形分辨率,方便的套刻(对准)操作,满足各类微电子器件及微纳测试结构的图案化工艺需求。 
应用领域: 小型台式无掩膜光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。
MicroWriter产品特点: Focus Lock自动对焦功能 Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿,以保证曝光分辨率。 直写前预检查 软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过调整位置、角度,直到设计图形按要求与已有结构重合,保证直写准确。 标记物自动识别 点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置。 光学轮廓仪 MicroWriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向最高精度100 nm,方便快捷。 简单的直写软件 MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。 Clewin 掩模图形设计软件 + 可以读取多种图形设计文件 (DXF, CIF, GDSII, 等) + 可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式 + 书写范围只由基片尺寸决定 MicroWriter基本参数: 型号:MicroWriter ML3(基本型) 最大样品尺寸:155×155×7mm 最大直写面积:149mm x 149mm 曝光光源:405 nm LED 1.5W 直写分辨率:1μm 直写速度:20mm2/min@1μm 对准显微镜镜头:x10 多层套刻精度:±1μm 最小栅格精度:200nm 样品台最小步长:100nm 光学轮廓Z分辨率:无(可升级) 样品表面自动对焦:是 灰度直写(255级):是 自动晶片检查工具:无(可升级) 温控样品腔室:无 (可升级) 虚拟模板校准工具:无(可升级) 气动减震光学平台:无(可升级)
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