传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板的方法，克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。

MicroWriter ML3是一款多功能激光直写光刻系统，具有结构小巧紧凑(70cm x 70cm x 70cm)，无掩膜直写系统的灵活性，还拥有高直写速度，高分辨率的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌面。
600nm图形分辨率，方便的套刻（对准）操作，满足各类微电子器件及微纳测试结构的图案化工艺需求。

应用领域：
小型台式无掩膜光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。

MicroWriter产品特点：
Focus Lock自动对焦功能
Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测，并通过Z向调整和补偿，以保证曝光分辨率。
直写前预检查
软件可以实时显微观测基体表面，并显示预直写图形位置。通过调整位置、角度，直到设计图形按要求与已有结构重合，保证直写准确。
标记物自动识别
点击“Bulls-Eye”按钮，系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后，将自动将其移动到显微镜中心位置。
光学轮廓仪
MicroWriter ML3 配备光学轮廓探测工具，用于匀胶后沉积层，蚀刻层，MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向最高精度100 nm，方便快捷。
简单的直写软件
MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。
Clewin 掩模图形设计软件
+ 可以读取多种图形设计文件
  （DXF, CIF, GDSII, 等）
+ 可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式
+ 书写范围只由基片尺寸决定

MicroWriter基本参数：
型号：MicroWriter ML3（基本型）
最大样品尺寸：155×155×7mm
最大直写面积：149mm x 149mm
曝光光源：405 nm LED 1.5W
直写分辨率：1μm
直写速度：20mm2/min@1μm
对准显微镜镜头：x10
多层套刻精度：±1μm
最小栅格精度：200nm
样品台最小步长：100nm
光学轮廓Z分辨率：无(可升级)
样品表面自动对焦：是
灰度直写(255级)：是
自动晶片检查工具：无(可升级)
温控样品腔室：无 (可升级)
虚拟模板校准工具：无(可升级)
气动减震光学平台：无(可升级)